溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影响

• 作者: 丁万煜 徐军 朴勇 王德和 董闯 邓新绿 高鹏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 拉曼光谱 X射线光电子谱 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 350-354
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2197字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.008

摘要

利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在Si(100)上制备氮化碳薄膜,并对薄膜进行了拉曼(Raman)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)等结构的表征.发现溅射靶功率对制膜工艺、薄膜的结构和表面形貌产生很大影响.随着溅射靶功率的增大,薄膜的沉积速率减小,表面粗糙度增大,薄膜结构中的sp2含量增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓新绿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	28	356	9.0	17.0
2	王德和	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	21	221	9.0	14.0
3	高鹏	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	41	283	10.0	15.0
4	徐军	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	51	346	11.0	14.0
5	朴勇	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	13	66	6.0	7.0
6	丁万煜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	10	1.0	1.0