真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
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总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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  • 作者:
    发表期刊: 2008年3期
    页码:  280
    摘要:
  • 作者: 岳强 张发荣 张晓丹 葛洪 赵静 赵颖
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  281-285
    摘要: 本文采用二维准平面电路模型,对大面积甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)用多点馈入平行板电极馈入点的优化进行了数值研究,讨论了不同的多点馈入模式对平行板电极间真空电势分布均匀...
  • 作者: 周进 尹乐 李自然 杨乐
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  286-290
    摘要: 为了提高脉冲等离子体推力器的效率,必须深入理解推力器的物理机理.本文在K-B模型中加入双温能量交换率项,并将该双温放电模型用于模拟平行板脉冲等离子体推力器加速通道中的等离子体激发及加速过程....
  • 作者: 刘翔 崔祥彦 王章涛 邓振波 邱海军
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  291-294
    摘要: 光刻胶的灰化是TFT四次光刻工艺的核心工艺之一,本文研究了TFT四次光刻工艺中光刻胶的灰化工艺,得到了功率、气压、灰化气体对光刻胶灰化速率和均匀度的影响趋势.研究表明,纯O2气体对光刻胶有很...
  • 作者: 丘泰 卢平 沈春英
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  295-298
    摘要: 采用稀土CeO2与钨机械混合,制备了掺杂稀土氧化铈(CeO2)M型扩散阴极,利用扫描电镜、压汞仪等测试手段分析了阴极基体的微观结构.用水冷阳极二极管检测了阴极的发射性能.同时利用XPS对老练...
  • 作者: 任鹏 刘忠良 刘金锋 徐彭寿
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  299-302
    摘要: 采用固源分子束外延(SSMBE)生长技术,用不同的蒸发速率,在Si(111)衬底上生长SiC薄膜.利用反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等实验技术...
  • 作者: 卫斌 吉元 吕长志 张小玲 张跃飞 张隐奇 王丽
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  303-307
    摘要: 在扫描电镜中,采用纳米微操纵仪构成一个2探针电流-电压(I-V)测试装置.测试了单根ZnO纳米线接触钨电极构成的金属-半导体-金属(M-S-M)结的I-V特征曲线.ZnO纳米线的I-V曲线呈...
  • 作者: 吴卫东 唐永建 孙卫国 朱永红
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  308-312
    摘要: 采用射频调谐朗缪尔单探针方法对螺旋波激发的氢等离子体I-V特性曲线进行了测量.运用Druyvestey方法对氢等离子体的电子能量分布(EEDF)及电子密度ne的变化规律进行了研究,并与发射光...
  • 作者: 徐灵飞 李建 柳建 王世庆 郦文忠 鄢泽林
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  313-317
    摘要: 研究了同轴对称表面波沿介质管内的等离子体轴向传播的特性,导出了介质管内外的电磁场表达式,数值计算并仿真模拟了等离子体密度、信号频率、介质管内径、碰撞频率等因素对表面波在等离子体中传播的影响....
  • 作者: 张溪文 李喆 韩高荣
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  318-324
    摘要: 采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP) 作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2...
  • 作者: 张建民 王光伟
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  325-330
    摘要: 本文分析了Al和Ni在外加电场作用下诱导非晶硅(a-Si)薄膜横向结晶的特点和机理.对影响非晶硅结晶的诸多因素,如场强、金属种类和退火条件进行了研究.简要概述了金属诱导横向结晶(MILC)相...
  • 作者: 刘同娟 顾文琪 马向国
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  331-336
    摘要: 设计了一种聚焦离子束系统用液态金属离子源(Liquid Metal lon Source-LMIS),本文对该源组件结构的设计、发射针尖的腐蚀工艺、挂金属镓工艺、测试系统的设计作了介绍;然后...
  • 作者: 徐均琪 苏俊宏 谢松林
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  337-340
    摘要: 类金刚石薄膜是一种很好的红外窗口表面增透保护材料,随着对其抗激光损伤特性研究的不断深入,越来越多的研究者都将研究的重点放在了如何提高其激光损伤阈值上.然而,不同沉积方法制备的薄膜由于其微观结...
  • 作者: 王德苗 金浩 马元远
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  341-345
    摘要: 随着环保要求的不断提高,特别是2006年欧盟新环保指令禁止电子产品含有铅、六价铬等重金属,铁氧体以往的电镀焊接薄膜将被明确禁止.本文采用磁控溅射技术在铁氧体表面制备无铅焊接复合薄膜,从理论和...
  • 作者: 任妮 武生虎 肖更竭 赵栋才 马占吉
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  346-350
    摘要: 为了解决类金刚石(DLC)膜在金属基底上附着力低的困难,本研究分别利用了两种厚度不同的Ti/TiCx/DLC过渡层和一种Ti/TiNy/TiNyCx/DLC过渡层在7种金属基底上(W18Cr...
  • 作者: 倪培相 史新伟 左秀荣 王齐伟 黄晓辉
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  351-354
    摘要: 本文利用独立钛靶,在衬底6063铝合金表面镀覆了一层氮化物薄膜.借助于X射线衍射仪对薄膜的相组成进行分析,利用薄膜测厚仪和显微硬度计对薄膜的厚度和硬度进行测量,通过光学金相显微镜及场发射扫描...
  • 作者: 张军 谢二庆 谢毅柱 邵乐喜
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  355-359
    摘要: 本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜,然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外透过光谱等表征技术,研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质...
  • 作者: 冯良桓 吴晓丽 夏庚培 张静全 李卫 武莉莉 郑家贵 雷智 黎兵
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  360-364
    摘要: 用真空共蒸发法制备了CuxTe(1≤x≤2)薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)及原子力显微镜(AFM)等表征手段分析了薄膜的结构特性,研究了热处理对不同Cu/Te配...
  • 作者: 刘玉芬 刘绪伟 卢景霄 赵剑涛 郜小勇
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  365-369
    摘要: 本文采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在普通玻璃上制备了本征和掺磷的氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜.利用Raman散射谱,计算了表征其薄膜微结构的晶化率(Xc)和平均晶粒尺寸...
  • 作者: 伍建华 张官理 望咏林 温培刚 王旭迪 颜悦
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  370-373
    摘要: 本文利用氩氧混合低能离子束对双酚A型聚碳酸酯(PC)透明材料进行表面改性,主要研究了改性前后表面润湿性的变化.结果表明,改性后的PC表面润湿性能得到了明显的改善,经XPS分析发现,改性后的P...
  • 作者: 付亚波 孙运金 张跃飞 杨莉 陈强
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  374-378
    摘要: 采用射频等离子体化学气相沉积的方法在有机玻璃表面沉积一层氧化硅薄膜,以提高其耐磨性能.分别使用红外光谱、金相显微镜和微型磨损试验机对所沉积的氧化硅薄膜进行了结构和表面性能分析.测试了改性前后...
  • 作者: 付亚波 岳蕾 桑利军 陈强 霍纯青
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  379-382
    摘要: 利用反应磁控溅射技术在有机玻璃(亚克力板)上完成Al的膜层制备,并进行了膜层表面的光泽度、附着力和耐腐蚀性等研究.实验发现,采用这种技术制备的Al膜具有较高的光泽度.在Al膜上沉积一层氧化硅...
  • 作者: 何钦波 徐言生 李玉春 潘树清
    发表期刊: 2008年4期
    页码:  383-387
    摘要: 针对大型冻干设备控制对象复杂,可靠性及控制精度要求高,特别是冻干设备中加热系统的大惯性、纯滞后、非线性以及时变等特点,在FD-200冻干设备控制系统设计中,采用二次热源控温法,并选用带自动修...
  • 作者: 卢景霄 张庆丰 郑文 郭学军 陈永生 高哲
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  389-393
    摘要: 本文采用铝诱导表面织构方法,在浮法玻璃表面成功地制备了陷光结构:采用快速辐射加热法对蒸镀约200nm厚Al膜的浮法玻璃基片进行了一定时间的热处理,然后分别经H3PO4和HF/HNO3的混合溶...
  • 作者: 宋长安 彭应全 李训栓 杨青森 王宏 袁建挺 赵明
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  394-398
    摘要: 一些无机半导体器件和许多有机薄膜器件都具有电双稳特性.通过对CuPc有机薄膜器件的,I-V曲线的分析,说明CuPc薄膜器件具有明显的电双稳特性.研究了膜厚对器件I-V特性的影响,结果表明Cu...
  • 作者: 何万万 凌玲 刘德龙 屠彦 杨兰兰 杨志龙
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  399-403
    摘要: 等离子体显示单元中的阳极条纹现象,即等离子体密度沿阳极分布不均匀的现象,对于提高等离子体显示屏的显示性能具有重要影响.在许多等离子体显示单元的实验和模拟过程中,都观察到了条纹现象,但对于条纹...
  • 作者: 方志 章程 胡建杭 赵龙章
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  404-409
    摘要: 用大气压空气中介质阻挡放电(DBD)对聚丙烯(PP)薄膜进行表面改性.通过扫描电子显微镜(SEN)观察、接触角测量和X射线光电子能谱分析(XPS)等手段,研究了DBD等离子体处理前后PP膜的...
  • 作者: 任妮 武生虎 肖更竭 赵栋才 马占吉
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  410-414
    摘要: 对离子源进行合理设计,使离子源中的Ar离子溅射产生Fe离子,利用裹挟Fe离子的Ar离子在制备类金刚石薄膜的过程中进行间歇性注入掺杂,制备多层类金刚石薄膜.这种多层类金刚石薄膜和单层类金刚石薄...
  • 作者: 刘天伟 刘成森 李晓红 王德真
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  415-419
    摘要: 本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程.考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束...
  • 作者: 庞晓露 杨会生 王燕斌 高克玮
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  420-423
    摘要: 氧化铬薄膜具有高的硬度,很好的耐磨、耐蚀性能,因而具有广泛的应用.但是到目前为止还没有看到对其微观结构研究的报道.本文通过扫描电镜、高分辨电镜及原子力显微镜研究了氧化铬薄膜及界面的微观结构....

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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