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真空科学与技术学报2010年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
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19905
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 通过普通的紫外(UV)光刻工艺,结合"变倾角缩口"新技术,研制了不同发射单元尺寸的碳纳米管(CNTs)阵列阴极.扫瞄电镜分析表明,随着缩口尺寸的依次减小(从0.6μm到0.4μm,最后到0....
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 针对准中性无碰撞等离子体的Vlasov方程及与其相耦合的求解电势的Poisson方程所组成的Vlasov-Poisson系统,提出了两种渐近保持PIC算法,并将其运用到一维周期性波动等离子体...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 为降低等离子体显示器(PDlP)的寻址功耗,在分析了AERCs,no-AERCs，以及IPs等寻址方法的原理和特点的基础上,提出了一种自适应低功耗寻址方法及其实现电路--自适应寻址能量恢复电...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 为了提高等离子体显示单元的亮度和放电效率,本文采用三维流体模型对新型荫罩式等离子体显示板(SMPDP)的菱形单元结构进行了优化.研究了放电单元中的荫罩小孔结构改变对寻址期和维持期放电的影响....
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 在不同的溅射气压下,采用连续磁控溅射制备了Fe/Si_3N_4多层膜,探讨了溅射气压对多层膜微波磁性的影响.研究发现,溅射气压影响着多层膜的沉积速率和微结构,在溅射铁子层时,Ar气流量控制在...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 线圈终端盒是保证国际热核聚变实验堆装置可靠运行的关键部件之一,为磁体系统与低温车间、电源大厅、数据采集系统和低温控制元件提供4.5K的超低温工作环境.线圈终端盒内设有80K冷屏,以吸收室温环...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 前栅极碳纳米管场发射显示板是一种常用的场致发射器件.该器件通过栅极与阴极之间形成的电场产生场致发射电子,在阳极高压的作用下,电子从电场中获得能量,轰击荧光粉产生可见光.本文采用模拟计算的方法...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 为了考察硅铝界面氧化铝膜对铝诱导多晶硅的影响,本文用磁控溅射方法制备了界面有无氧化铝膜的硅铝复合结构.XRD测试表明两种铝诱导方法均制备了具有(111)高度择优取向的多晶硅薄膜.光学显微镜和...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 综述了目前冶金级硅氧化精炼制备太阳能级硅的研究进展,详细介绍了熔渣精炼、吹气氧化精炼和热等离子体精炼的方法和装置以及杂质的去除效果.研究发现:上述氧化精炼方法对硅中杂质元素Al、Ca、Cu、...
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10. 影响铝合金真空钎焊质量的关键因素刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 通过钎剂、钎料、真空度、工装夹具和钎焊工艺等对铝合金真空钎焊质量的影响实验研究,明确了这些关键因素的影响机理,归纳出了钎焊工艺设计的关键点.工作压强≤1×10~(-3)Pa是铝真空钎焊的必要...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 用四极质谱计对316L不锈钢制作的极高真空(XHV)校准室在烘烤前、后的残余气体成分进行了分析.一个热阴极电离规(IE514)和一个四极质谱计(QMS200)连接在XHV校准室上.烘烤前,开...
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12. 柱塞密封结构的漏率预估刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 柱塞密封结构是飞船管路系统常用的一种密封结构形式,故研究柱塞密封结构的密封性能具有重要的工程意义.文中,通过对柱塞密封结构密封机理的分析,给出了一个计算其漏率的理论公式,并与试验数据进行了对...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 碳纳米管(CNT)和衬底的电学接触问题是获得高性能CNT电子器件的一个关键性的问题.本文采用电泳电镀方法制备CNT冷阴极,有效改善了CNT与衬底间接触电阻,增强了碳纳米管场发射性能.电泳电镀...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiO_x超疏水薄膜,研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响.通过傅里叶红外光谱(FTIR)对SiO_x薄膜进行了结构分析、通过原子力显微镜(...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备了性能良好的透明导电ZnO:Al薄膜,并研究了衬底温度和氢气退火对薄膜结构和光电性能的影响.结果表明,衬底加热可以改善薄膜结晶质量和c轴择优取向,减小内...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 使用NH3在氮化炉中对纯钛铸件进行辉光等离子渗氮.分别应用X线衍射仪XRD、显微硬度计、扫描电镜、摩擦磨损实验及电化学实验研究等离子渗氮对纯钛铸件机械性能、摩擦学性能、耐腐蚀性的影响.铸造纯...
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17. 磁性液体密封结构的优化设计刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 在磁性液体密封的理论及现有设计原则的基础上,建立了以磁铁体积最小和极靴长度最小为目标的密封结构优化设计的数学模型.利用带有约束条件的多目标混合遗传算法,通过Matlab编程与Ansys软件的...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 利用实验测评和模拟分析的方法研究了螺旋线慢波系统中采用不同材料的管壳对其性能的影响.主要分析了蒙乃尔管壳、铜管壳和蒙乃尔内嵌铜管壳的应用,对螺旋线慢波系统的散热性能和高频特性的影响.研究表明...
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19. BEPCⅡ束流引入的真空测量误差刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 当BEPCⅡ储存环的束流突然丢失时,真空计和离子泵的压力测量值都先有一个瞬时的减小,之后才逐渐降低到本底压力.这表明束流运行时压力测量值中存在着束流引入的正误差,误差量正是测量值减去实际值之...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 小型真空拾取器被广泛应用于轻质小型元器件的搬运机构之中.通常要求真空吸取器在执行搬运作业时其拾取动作尽可能迅速,其总响应时间为阀门动作、抽气降压和工件运动三部分响应时间之和.本文通过理论推导...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要： 采用双靶磁控溅射的方法在不锈钢表面沉积了TiN/Cu-Zn纳米多层膜,研究了多层结构对膜层耐腐蚀性能和抗菌性能的影响,以及表面腐蚀与抗菌的关系.结果表明,Cu-Zn层比较薄时,膜层的耐腐蚀性...
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22. 《真空科学与技术学报》征稿说明刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年1期页码:摘要：
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 通过对实验过程中炸裂的S波段盒型输出窗观察和X射线光电子能谱检测,结合软件对窗内电磁场分布模拟以及电磁机理的理论分析,探讨高平均功率输出窗电击穿的物理原因,研究窗中高次模式电场对微波功率损耗...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 利用直流脉冲磁控溅射方法在不同O_2/Ar比例条件下制备具有不同结构、性能的TiO_2薄膜,利用台阶仪、X射线衍射仪及紫外-可见分光光度计等仪器,对薄膜的结构、透光性能、光催化性能等进行表征...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响.由模拟结果可知,随着温度的升高, F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 后栅极场发射显示板是一种常用的场致发射器件.该器件结构由阳极、阴极和栅极组成,并且栅极置于阴极背面.本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 高氙浓度是提高等离体显示器亮度和发光效率的有效手段,但必须关注高氙比例对寻址放电延迟的影响.本文采用7英寸小屏实验平台研究氙比例增加对寻址放电延迟的影响,分析了氙比例增加,寻址电压和维持电压...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 在提拉法生长出Ni_(52)Mn_(16.4)Fe_8Ga_(23.6)单晶样品的基础上,测量了其相变应变和磁感生应变.与Ni_(52)Mn_(24.5)Ga_(23.5)单晶样品的实验结果...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 利用磁控溅射离子镀技术于不同占空比下在单晶Si基体上制备出纯Cr镀层,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了纯Cr镀层表面和截面微观形貌、沉积速率和择优生长取向的变化规律.结果表明:占空比的...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2010年2期页码:摘要： 为了揭示Al-C-N非晶薄膜的结构、导电性以及它们之间的关系,本文采用非平衡磁控溅射沉积技术在Si(100)基体上沉积得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜.使用X射线光电子能谱仪、X射线衍射...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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