i线(365 nm)分步投影光刻机曝光系统

• 作者: 李尧
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: i线曝光系统 照明均匀性 方形柱体蝇眼透镜 掩模光栏 消像差聚光系统
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 论文·研制报告
• 页码范围: 7-11
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3509字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2001.04.002

摘要

主要介绍了一种结构新颖的光学曝光系统,对光路的结构、原理、特点以及关键技术作了详细的论述,并给出了光路系统图和照明均匀性的测试结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李尧		1	4	1.0	1.0