多介质工艺X射线光刻制作T形栅

• 作者: 刘刚 叶甜春 孙加兴 申云琴 谢常青
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: X射线 赝质结高电子迁移率晶体管 T形栅 多介质工艺
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 239-241
• 页数: 3页
• 分类号: TN321+.5
• 字数: 1381字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.03.020

摘要

半导体器件日益向高频、高速方向发展,赝质结高电子迁移率晶体管以其高频、高速、低噪声受到人们重视而发展迅速.在PHEMT的制作工艺中,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的.采用X射线多介质工艺制作T形栅,其形貌清晰,线条基本可控,为MMIC制作提供了可靠的工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢常青	中科院微电子中心	2	8	2.0	2.0
2	叶甜春	中科院微电子中心	14	91	5.0	9.0
3	申云琴	天津大学电子信息工程学院	5	13	2.0	3.0
4	刘刚	中国科技大学国家同步辐射实验室	4	25	3.0	4.0
5	孙加兴	天津大学电子信息工程学院	1	2	1.0	1.0