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CeO2掺杂引起SnO2压敏电阻的晶粒尺寸效应
CeO2掺杂引起SnO2压敏电阻的晶粒尺寸效应
作者:
滕树新
王矜奉
臧国忠
苏文斌
陈洪存
高建鲁
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
压敏材料
二氧化锡
电学性能
缺陷势垒模型
摘要:
研究了掺CeO2对SnO2·Co2O3·Ta2O5压敏电阻器性能的影响.研究发现:随着x(CeO2)从0增加到1%,压敏电压从190 V/mm增加到205 V/mm,相对介电常数从3 317减小到2 243,晶粒平均尺寸从12.16 μm减小到6.23 μm,在晶界上的Ce4+阻碍了SnO2晶粒的生长.为了解释样品电学非线性性质的起源,笔者提出了SnO2·Co2O3·Ta2O5·CeO2晶界缺陷势垒模型.同时,对该压敏电阻器进行了等效电路分析,试验测量与等效电路分析结果相符.
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文献信息
篇名
CeO2掺杂引起SnO2压敏电阻的晶粒尺寸效应
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
压敏材料
二氧化锡
电学性能
缺陷势垒模型
年,卷(期)
2003,(11)
所属期刊栏目
敏感元器件
研究方向
页码范围
31-34
页数
4页
分类号
TN379
字数
2354字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-2028.2003.11.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王矜奉
山东大学物理与微电子学院
64
562
13.0
20.0
2
陈洪存
山东大学物理与微电子学院
40
335
12.0
15.0
3
苏文斌
山东大学物理与微电子学院
27
203
10.0
13.0
4
臧国忠
山东大学物理与微电子学院
16
145
8.0
11.0
5
高建鲁
5
37
5.0
5.0
6
滕树新
山东大学物理与微电子学院
1
13
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(19)
参考文献
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节点文献
引证文献
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节点文献
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缺陷势垒模型
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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电子元件与材料2003年第4期
电子元件与材料2003年第3期
电子元件与材料2003年第2期
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电子元件与材料2003年第10期
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