蔡司模拟光刻机的应用

• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 掩膜板 集成电路制造 看门狗定时器 光学邻近效应 发展与进步 特征尺寸 半导体微电子技术 模拟 光刻机
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 页码范围: 76-78
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文

摘要

随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小.相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜.无论是现在还是未来,要在芯片上制作更小尺寸器件,离不开掩膜技