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摘要:
利用X射线光电子能谱,对在SiC衬底上采用MOCVD异质外延的未故意掺杂的GaN进行N、Ga组份测试,同时用光致发光技术对样品进行发光特性的研究.结果表明,随着GaN薄膜中Ga百分含量逐渐减小,室温下黄光输出峰值强度却逐渐增加.因此,在Ga含量相对低的GaN薄膜中容易形成Ga空位(即Ga空位浓度较高),而此时,黄光辐射强度单调递增证明,黄光辐射与VGa密切相关.
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文献信息
篇名 SiC衬底上异质外延GaN薄膜XPS谱和PL谱研究
来源期刊 光子学报 学科 工学
关键词 GaN 异质外延 X射线光电子能谱 光致发光
年,卷(期) 2003,(12) 所属期刊栏目 薄膜光学
研究方向 页码范围 1510-1513
页数 4页 分类号 TN304
字数 1661字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郝跃 西安电子科技大学微电子研究所 312 1866 17.0 25.0
2 冯倩 西安电子科技大学技术物理学院 35 224 7.0 13.0
6 段猛 西安电子科技大学微电子研究所 4 35 3.0 4.0
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研究主题发展历程
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光致发光
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52-105
1972
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