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SiC衬底上异质外延GaN薄膜结构缺陷对黄光辐射的影响
SiC衬底上异质外延GaN薄膜结构缺陷对黄光辐射的影响
作者:
冯倩
段猛
郝跃
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
GaN
异质外延
光致发光
扫描电子显微术
X光衍射
摘要:
利用光致发光技术对在SiC衬底上采用MOCVD异质外延未故意掺杂的GaN进行发光特性的研究,发现在室温下有很强的黄光输出,同时,采用扫描电子显微术和X光衍射对样品的表面形貌和结构进行了研究,结果发现,随着缺陷密度的减少,黄光输出强度也有所降低,因此,黄光输出强度与缺陷有很大的关系.
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GaN
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SiC衬底
MOCVD
X射线衍射
内容分析
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文献信息
篇名
SiC衬底上异质外延GaN薄膜结构缺陷对黄光辐射的影响
来源期刊
光子学报
学科
工学
关键词
GaN
异质外延
光致发光
扫描电子显微术
X光衍射
年,卷(期)
2003,(11)
所属期刊栏目
光电子学
研究方向
页码范围
1340-1342
页数
3页
分类号
TN304.23
字数
1657字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝跃
西安电子科技大学微电子研究所
312
1866
17.0
25.0
2
冯倩
西安电子科技大学技术物理学院
35
224
7.0
13.0
6
段猛
西安电子科技大学微电子研究所
4
35
3.0
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GaN
异质外延
光致发光
扫描电子显微术
X光衍射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光子学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院西安光学精密机械研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-4213
CN:
61-1235/O4
开本:
大16开
出版地:
西安市长安区新型工业园信息大道17号47分箱
邮发代号:
52-105
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
8749
总下载数(次)
11
总被引数(次)
70454
相关基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)
英文译名:
National Basic Research Program of China
官方网址:
http://www.973.gov.cn/
项目类型:
学科类型:
农业
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