光学光刻的极限

• 作者: 童志义
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 分辨力增强技术 浸没式透镜 偶极照明双重曝光 分辨力极限
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题报道(光刻技术与设备)
• 页码范围: 4-9
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5465字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.02.002

摘要

讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童志义	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	233	8.0	11.0