双离子束溅射法制备SiOxNy薄膜的结构与发光

• 作者: 刘义保 吴雪梅 李群 诸葛兰剑 邓玲娜 黎定国
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 双离子束测射 SiOxNy薄膜 结构与发光
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.01.015

摘要

本文采用双离子束溅射沉积法制备了SiOxNy复合薄膜,XRD、TEM测试表明薄膜呈非晶态,FTIR及XPS测试表明薄膜成分由Si、O、N组成,在室温下可观察到样品有400 nm(紫光)、470 nm(蓝光)的光致发光.根据测试分析研究了SiOxNy薄膜的可能的发光机理:470 nm处发光峰为来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O3≡Si-Si≡O3),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化,800℃时最大,高于800℃时慢慢减弱;400 nm发光峰的发射与薄膜中的Si、O、N所形成的结构有关,它可能来自于Si、O、N结构所形成的发光中心,该峰位的强度随退火温度的升高而增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘义保	东华理工学院物理系	80	338	10.0	15.0
2	吴雪梅	苏州大学物理科学与技术学院	72	331	9.0	13.0
3	诸葛兰剑	苏州大学物理科学与技术学院	59	199	8.0	11.0
4	李群	东华理工学院物理系	13	16	2.0	3.0
5	黎定国	东华理工学院物理系	12	66	3.0	8.0
6	邓玲娜	东华理工学院物理系	12	58	3.0	7.0