HfO2膜料中的杂质对薄膜损伤及性能的影响

• 作者: 吴师岗 易葵 范正修 赵元安 邵建达
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: HfO2膜料 杂质 金属 吸收性介质 Zr元素 负离子元素
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 757-760
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2245字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2006.05.021

摘要

通过对HfO2膜料中杂质元素的分析,找出了影响薄膜性能的主要杂质元素.结果表明:金属元素、吸收性介质元素的存在对薄膜的损毁有很大负面影响;在紫外波段,Zr元素含量大的薄膜吸收较大;并且提出负离子元素在膜料蒸发过程中形成气源中心,产生喷溅,从而使薄膜的损伤阈值降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
5	吴师岗	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	31	4.0	5.0