45 nm工艺与先进的光刻设备

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 45 nm工艺 193 nm ArF浸没式光刻机 分辨率
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 先进光刻技术
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4975字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.09.001

摘要

2006年是65 nm芯片量产年和45nm芯片首推年.193 nm ArF浸没式光刻机将在量产65、45、32 nm芯片中大显身手、大展鸿图.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0