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摘要:
引进的俄罗斯TM-1201溅射台,经过在生产过程中结合现状不断革新改进、工艺技术上精雕细啄,从而使该设备长期保持良好的运行状态.薄膜的质量、膜厚均匀性也得到显著提高,并能满足1 000MHz器件(铝条间隔0.58μm)对镀膜提出的质量要求.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 TM-1201溅射台及其工艺的完善
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 溅射台 薄膜 均匀性 冷凝泵
年,卷(期) 2006,(11) 所属期刊栏目 微电子制造与可靠性
研究方向 页码范围 35-37
页数 3页 分类号 TN451
字数 3388字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1681-1070.2006.11.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王立燕 2 0 0.0 0.0
2 江锋 1 0 0.0 0.0
3 吴凌祎 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
溅射台
薄膜
均匀性
冷凝泵
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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