氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究

• 作者: 张光勇 王汉华 薛亦渝 郭培涛 马中杰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: Ta2O5薄膜 离子束辅助 AFM 表面形貌 光学性能
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 1841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.05.009

摘要

本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量.用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率.实验及分析结果表明:所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛亦渝	武汉理工大学材料科学与工程学院	48	532	13.0	21.0
2	王汉华	武汉理工大学材料科学与工程学院	5	31	3.0	5.0
3	郭培涛	武汉理工大学材料科学与工程学院	20	74	5.0	8.0
4	张光勇	武汉理工大学材料科学与工程学院	5	31	3.0	5.0
5	马中杰	武汉理工大学材料科学与工程学院	6	31	3.0	5.0