工作气压对磁控溅射ITO薄膜性能的影响

• 作者: 任丙彦 刘晓平 李彦林 王敏花 羊建坤 许颖
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ITO薄膜 溅射气压 低温
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 798-801
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1931字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.018

摘要

工作气压在ITO薄膜的制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能.本文利用射频磁控溅射方法,采用氧化铟锡陶瓷靶材,在衬底温度为175℃,工作气压范围为0.45～1.0 Pa条件下,制备了氧化铟锡透明导电薄膜.研究了工作气压对其微观结构、表面形貌和光电特性的影响.在衬底温度为175℃、纯氩气中制备的氧化铟锡薄膜电阻率为3.04 ×10-4 Ω·cm、可见光波段(400～800 nm)透过率为91.9%,适合用作异质结太阳电池的前电极和减反射膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任丙彦	河北工业大学信息功能材料研究所	31	241	9.0	14.0
2	李彦林	河北工业大学信息功能材料研究所	3	51	3.0	3.0
3	羊建坤	河北工业大学信息功能材料研究所	3	51	3.0	3.0
4	刘晓平	河北工业大学信息功能材料研究所	2	42	2.0	2.0
6	王敏花	河北工业大学信息功能材料研究所	2	42	2.0	2.0
12	许颖		3	31	3.0	3.0