平面弧靶结构对锆膜层性能的影响

• 作者: 刘永华 刘际伟 张跃杰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀膜 耐蚀性 Zr膜 靶座结构
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 80-82
• 页数: 3页
• 分类号: O461.2+2|TB43
• 字数: 1612字
• 语种: 中文

摘要

通过对靶座结构的改变,使得靶面不再存在其他材质,由此提高了电弧离子镀膜膜层的纯度.考核了靶结构调整前后所镀制锫膜层的耐酸蚀性能,通过XPS手段测试了两种状态下膜层的成份及其含量,解释了两种膜层耐酸蚀性能差异的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘际伟	中国工程物理研究院化工材料研究所	15	145	4.0	12.0
2	刘永华	中国工程物理研究院化工材料研究所	7	119	5.0	7.0
3	张跃杰	中国工程物理研究院化工材料研究所	2	3	1.0	1.0