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缠绕式射频磁控溅射聚(PET)表面沉积氧化硅(SiOx)薄膜的研究
缠绕式射频磁控溅射聚(PET)表面沉积氧化硅(SiOx)薄膜的研究
作者:
刘壮
孙智慧
林晶
高德
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
射频磁控溅射
SiOx薄膜
表面形貌
阻隔性
红外吸收光谱
摘要:
采用缠绕式射频磁控溅射方法在PET表面沉积SiOx薄膜.研究了制备工艺对薄膜组成、表面形貌、阻隔性能的影响.通过红外光谱(FITR)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)观察分析了射频功率、工作压强等参数对SiOx薄膜性能的影响,得到最佳工艺参数;通过透湿与透氧测试,2000W、0.7Pa得到SiOx薄膜对水蒸汽的阻隔性提高了约15倍,对氧气的阻隔性提高了25倍.
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文献信息
篇名
缠绕式射频磁控溅射聚(PET)表面沉积氧化硅(SiOx)薄膜的研究
来源期刊
真空科学与技术学报
学科
工学
关键词
射频磁控溅射
SiOx薄膜
表面形貌
阻隔性
红外吸收光谱
年,卷(期)
2009,(z1)
所属期刊栏目
技术交流
研究方向
页码范围
94-97
页数
4页
分类号
TB484.5
字数
1803字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-7126.2009.z1.22
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
林晶
40
160
7.0
11.0
2
高德
42
715
15.0
26.0
3
刘壮
36
267
9.0
16.0
4
孙智慧
87
596
14.0
21.0
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研究主题发展历程
节点文献
射频磁控溅射
SiOx薄膜
表面形貌
阻隔性
红外吸收光谱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空科学与技术学报
主办单位:
中国真空学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
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