作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
本文通过VDMOS的电参数来确定其结构参数.通过击穿电压来确定外延层的厚度和电阻率.通过阈值电压来确定栅氧的厚度.由饱和电流的表达式可知元胞的最大通态电流.导通电阻和击穿电压是两个相互矛盾的参数,增加击穿电压和降低导通电阻对器件尺寸的要求是矛盾的.
推荐文章
一种600V高压超结VDMOS结构设计与优化
超结VDMOS
比导通电阻
击穿电压
结构优化
高压功率VDMOS管的设计研制
VDMOS
优化外延层
终端保护技术
关于塑封VDMOS器件热点的研究
功率晶体管
单雪崩能量测试
热点
失效分析
低压VDMOS氧化层厚度与特征电阻的优化设计
功率VDMOS
阈值电压
特征电阻
MOSFET
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 高压VDMOS的设计
来源期刊 数字技术与应用 学科 工学
关键词 VDMOS 结构 设计指标 版图
年,卷(期) 2010,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 101-102
页数 分类号 TN386.1
字数 1756字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郝晓波 6 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2010(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
VDMOS
结构
设计指标
版图
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
数字技术与应用
月刊
1007-9416
12-1369/TN
16开
天津市
6-251
1983
chi
出版文献量(篇)
20434
总下载数(次)
106
总被引数(次)
35701
论文1v1指导