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时效对Sn3.0Cu0.15Ni/Cu界面组织的影响
时效对Sn3.0Cu0.15Ni/Cu界面组织的影响
作者:
刘平
钟海峰
顾小龙
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Sn3.0Cu0.15Ni焊料
界面组织
金属间化合物
摘要:
研究了150℃时效0,200,500h对Sn3.0Cu0.15Ni/Cu界面组织结构的影响.结果表明:界面金属间化合物层由Cu6Sn5层和Cu3Sn层组成,质量分数为0.15%的Ni的加入会使IMC层最初变厚,但在时效过程中,热稳定性强的界面化合物(Cu,Ni)6Sn5的生成,会抑制Cu3Sn化合物层的生长;同时Ni的加入会降低Cu6Sn5颗粒的长大速度,并且随着时效时间的延长,Cu6Sn5颗粒的形貌呈多面体结构.
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相关文献总数
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文献信息
篇名
时效对Sn3.0Cu0.15Ni/Cu界面组织的影响
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
Sn3.0Cu0.15Ni焊料
界面组织
金属间化合物
年,卷(期)
2012,(12)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
56-59
页数
4页
分类号
TN601
字数
2612字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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G指数
1
顾小龙
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4.0
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钟海峰
3
9
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3.0
5
刘平
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3.0
5.0
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节点文献
Sn3.0Cu0.15Ni焊料
界面组织
金属间化合物
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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