FT—NIR光谱仪测定酒糟成分不同谱区范围对数学模型的影响

• 作者: 唐利
• 来源期刊: 酿酒科技
• 学科: 工学
• 关键词: 分析方法 谱区范围 决定系数(R) 均方差(RMsECV)
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 生产实践
• 页码范围: 65-67
• 页数: 3页
• 分类号: TS262.3
• 字数: 982字
• 语种: 中文

摘要

通过使用FT—NIR光谱仪，探讨不同的近红外谱图范围分别对出入窖糟的各组分的影响，找到最佳的谱区范围，确定决定系数（R）和均方差（RMsEcV），建立最优数学模型，确保检测数据准确可靠。