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摘要:
铜引线键合由于低廉的成本和优良的材料综合性能而受到越来越多的重视,而镀钯铜线较纯铜线的应用更为广泛.其中,自由空气球(FAB)上钯的覆盖情况是需要进行研究的问题之一.由于烧球工艺为瞬态过程,因此在形成FAB后其表面的钯可能会出现不均匀的分布,后续的塑封环节中低含量的钯区域就会遭受外界的侵蚀,这对焊点的可靠性会有不良的影响.基于此,针对线径20 μm镀钯铜线FAB上的钯覆盖区域进行了探究,并采用定制化的化学腐蚀方案来显示FAB上钯膜较厚区域和较薄区域在形貌上的差异.此外还讨论了不同电子火焰熄灭(EFO)工艺参数样品的钯薄弱区形状参数,最后分析了影响FAB表面上钯薄弱区的主要工艺因素,得到了相关工艺参数参考值,对后续工艺的可靠性提升有一定的借鉴意义.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 镀钯铜线键合中FAB表面的钯覆盖
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 封装 铜引线键合 镀钯铜线 钯覆盖 电子火焰熄灭(EFO) 自由空气球(FAB)
年,卷(期) 2013,(8) 所属期刊栏目 封装技术
研究方向 页码范围 623-628
页数 分类号 TN305.93
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353x.2013.08.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 俞宏坤 复旦大学材料科学系 24 318 8.0 17.0
2 王家楫 复旦大学材料科学系 25 114 6.0 9.0
3 浦浩楠 复旦大学材料科学系 1 0 0.0 0.0
传播情况
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2013(0)
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研究主题发展历程
节点文献
封装
铜引线键合
镀钯铜线
钯覆盖
电子火焰熄灭(EFO)
自由空气球(FAB)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
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38
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