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应用于TD-LTE的SiGe BiCMOS功率放大器的设计
应用于TD-LTE的SiGe BiCMOS功率放大器的设计
作者:
张世林
李慧超
李杨阳
毛陆虹
谢生
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiGe BiCMOS
TD-LTE
功率放大器
摘要:
针对准第四代无线通信技术TD-LTE中2.570~2.620 GHz频段的应用,设计了一款基于IBM SiGe BiCMOS7WL工艺的射频功率放大器.该功率放大器工作于AB类,采用单端结构,由两级共发射极电路级联构成,带有基极镇流电阻,除两个谐振电感采用片外元件外,其他全部元件均片上集成,芯片面积为(1.004×0.736)mm2.测试结果表明,在3.3 V电源电压下,电路总消耗电流为109 mA,放大器的功率增益为16dB,输出1 dB增益压缩点为15 dBm.该驱动放大器具有良好的输入匹配,工作稳定.
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自适应偏置
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文献信息
篇名
应用于TD-LTE的SiGe BiCMOS功率放大器的设计
来源期刊
微电子学
学科
工学
关键词
SiGe BiCMOS
TD-LTE
功率放大器
年,卷(期)
2014,(4)
所属期刊栏目
电路与系统设计
研究方向
页码范围
424-429
页数
分类号
TN431
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
毛陆虹
天津大学电子信息工程学院
165
736
12.0
20.0
2
张世林
天津大学电子信息工程学院
109
334
8.0
11.0
3
谢生
天津大学电子信息工程学院
68
232
7.0
11.0
4
李杨阳
天津大学电子信息工程学院
2
7
1.0
2.0
5
李慧超
天津大学电子信息工程学院
1
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研究主题发展历程
节点文献
SiGe BiCMOS
TD-LTE
功率放大器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
主办单位:
四川固体电路研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-3365
CN:
50-1090/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号24所
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
20
总被引数(次)
21140
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