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具有反射电极的高亮度LED芯片设计
具有反射电极的高亮度LED芯片设计
作者:
李晓波
李珅
王静辉
陈才佳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电流阻挡层
Al反射镜
反射电极
化学气相沉积(CVD)
电子束蒸发
摘要:
根据光学薄膜原理,针对正装LED芯片设计了5种不同方式的电极结构,得出电流阻挡层SiO2和Al反射镜叠加制备出的反射电极具有较高的反射率,光电特性明显优于常规电极制备出的LED芯片.实验结果表明,该反射电极的反射率比常规电极结构反射率高53.1%,电流阻挡层SiO2可以改进有源区的电流扩展,减小电流堆积效应,而Al作为反射镜可以降低电极对光的吸收,使其发光效率、光强分布、饱和特性曲线和发光角度明显优于常规电极结构.实验采用化学气相沉积(CVD)法配合电子束蒸发制备反射电极,芯片的光功率提高了5.6%,成功制备出高亮度LED芯片.
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基于GaN LED芯片的反射电极结构在量产中的稳定性研究
GaN LED
反射电极结构
金属铝
稳定性
内容分析
文献信息
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相关学者/机构
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内容分析
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文献信息
篇名
具有反射电极的高亮度LED芯片设计
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
电流阻挡层
Al反射镜
反射电极
化学气相沉积(CVD)
电子束蒸发
年,卷(期)
2014,(5)
所属期刊栏目
半导体器件
研究方向
页码范围
361-364
页数
分类号
TN312.8
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.05.009
五维指标
作者信息
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姓名
单位
发文数
被引次数
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1
王静辉
中国电子科技集团公司第十三研究所
4
8
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3
陈才佳
中国电子科技集团公司第十三研究所
3
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2.0
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4
李珅
1
3
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李晓波
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研究主题发展历程
节点文献
电流阻挡层
Al反射镜
反射电极
化学气相沉积(CVD)
电子束蒸发
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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