无裂纹SiO2薄膜的纳尺度电射流叠层沉积工艺

• 作者: 任同群 梁军生 王大志 王金鹏 郑胜
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化硅 薄膜 无开裂 电射流沉积 沉积高度 扫描间距
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 83-87
• 页数: 5页
• 分类号: TB321
• 字数: 2901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2018.07.016

摘要

针对SiO2薄膜制备过程中的龟裂难题,开发了基于电射流沉积的制备工艺,通过对沉积参数的调节,实现了SiO2薄膜的无裂纹可控制备.首先调制了由SiO2溶胶和SiO2颗粒混合而成SiO2悬浮液,其目的在于降低沉积薄膜中的内应力,从而减少薄膜表面裂纹.其次采用电射流沉积的方法,通过调控沉积高度和扫描间距,实现了薄膜的无裂纹制备.最后,通过SEM对薄膜表面形貌和截面形貌进行了表征.结果表明当沉积高度为4 mm,扫描间距为1.4 mm时,可以得到无裂纹SiO2薄膜.通过层层叠加的方式来制备SiO2薄膜,沉积12层得到了厚度为3.41μm的SiO2无开裂薄膜,相应单层沉积厚度为284 nm.最后将所制备的薄膜在550℃下烧结成型.所开发的电射流沉积薄膜技术可用于高质量SiO2薄膜的制备,具有很好的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王大志	大连理工大学精密与特种加工技术教育部重点实验室	29	41	3.0	5.0
2	梁军生	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	23	53	4.0	6.0
6	王金鹏	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	4	5	2.0	2.0
7	郑胜	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	1	0	0.0	0.0