湿法刻蚀提高硅刻蚀均匀性技术研究

• 作者: 夏楠君 王文丽 祝福生 赵宝君 黄鑫亮
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 湿法刻蚀 各向同性刻蚀 各向异性刻蚀 刻蚀均匀性
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3614字
• 语种: 中文

摘要

介绍了硅湿法刻蚀的工作原理,分析了影响硅刻蚀均匀性的主要因素,重点阐述了在湿法腐蚀设备中提高硅刻蚀均匀性的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宝君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	4	2	1.0	1.0
2	祝福生	中国电子科技集团公司第四十五研究所	15	29	3.0	5.0
3	王文丽	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	9	2.0	3.0
4	夏楠君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	10	11	2.0	3.0
5	黄鑫亮	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	2	1.0	1.0