基于铁电薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si结构的负电容效应研究

• 作者: 朱传云 李矩明 马信洲 麦满芳
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 负电容 铁电薄膜 PVDF MFIS结构 电感
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: TN303
• 字数: 2332字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.11.002

摘要

采用旋涂法制备了基于铁电聚合物薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si(MFIS)结构.通过测量MFIS结构的电容-频率特性和电容-电压特性,观察到负电容效应.测量频率越低,正向偏压越大,负电容效应越显著.在时域中,施加脉冲电压,出现瞬态电流随时间增大的电感现象.研究结果表明,MFIS结构中的负电容效应是一种电感现象.构建能带图分析MFIS结构中负电容效应的产生原因,是由于大量电子注入到界面中被捕获使得电流的相位落后于电压导致.基于铁电薄膜的负电容MFIS结构有望应用于低功耗器件中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱传云	佛山科学技术学院物理与光电工程学院	15	45	3.0	6.0
2	麦满芳	佛山科学技术学院物理与光电工程学院	3	0	0.0	0.0
3	马信洲	佛山科学技术学院材料科学与能源工程学院	2	0	0.0	0.0
4	李矩明	佛山科学技术学院物理与光电工程学院	1	0	0.0	0.0