分子层沉积纳米薄膜的现状和发展

• 作者: 陈谦 杨丽珍 刘忠伟 张海宝 陈强
• 来源期刊: 真空
• 关键词: 分子层沉积技术 原理 薄膜 应用
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 真空应用|Vacuum Technology Application
• 页码范围: 26-31
• 页数: 6页
• 分类号: TQ31|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.05.03

摘要

随着微电子技术、锂离子电池和太阳能电池等行业的发展,人们对聚合物薄膜,尤其是纳米级聚合物薄膜的要求也越来越高.在传统的沉积方法不能满足要求的条件下,找到新的沉积聚合物的方法势在必行.分子层沉积(MLD)是一种类似于原子层沉积的技术,它可以精确控制聚合物膜的厚度、组成、形貌和保形性.因此,MLD可以成为制备聚合物薄膜的一种新方法.本文综述了分子层沉积的原理和方法,以及在薄膜领域的发展和应用,最后给出了分子层沉积技术未来发展所面对的挑战和展望.