硅基MOSFET功率放大器TO-3封装热性能研究

• 作者: 李平 吴潇巍 周金清
• 来源期刊: 半导体技术
• 关键词: Si MOSFET TO-3封装 热分析 功率放大器
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 先进封装技术|Advanced Packaging Technologies
• 页码范围: 310-315
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.94
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.04.010

摘要

针对某款硅基MOSFET功率放大器TO-3封装散热问题,研究了其内部2个功率芯片在35 W下的热性能.通过建立该款功率放大器TO-3封装的有限元仿真模型,采用热仿真软件对这2个功率芯片的间距、焊片材料和厚度以及基板材料和厚度进行仿真优化,分析各个变量对芯片结温的影响.仿真结果表明在管基材料确定的情况下,氧化铍基板和金锡焊片对器件散热有较明显的效果.选用2.5 mm厚的10#钢和其他优化参数进行仿真,结果显示芯片位置处的温度最高,最高温度约为88℃.通过制备相应产品对比了优化前后该款功率放大器的温度变化,测试结果显示优化后器件热阻从2.015℃/W降低到1.535℃/W,产品散热效率提高了约23％.