直流磁控溅射对异形工件内表面沉积薄膜性能的影响

• 作者: 张健 李建浩 齐振华 徐全国 唐智聪
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 异形工件 直流磁控溅射 工作气压 衬底温度 厚度均匀性
• 年，卷（期）: 2022,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 223-227
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjvst.202110013

摘要

对于表面形状复杂的异形工件,在薄膜沉积过程中由于受到阴影效应的影响,将会造成薄膜厚度的不均匀以及表面性能和结构的差异,工件在应用过程中容易导致表面失效,降低其使用寿命.为了在异形工件表面获得厚度均匀的薄膜,本文采用直流磁控溅射镀膜方式和单一因素变量法,在不同的工作气压、衬底温度下对异形工件内表面进行薄膜的制备.使用台阶仪、扫描电镜,分别对所制备薄膜进行厚度均匀性和表面形貌检测.结果显示:在一定的工作气压和衬底加热温度范围内,通过改变工艺参数对提高沉积薄膜厚度的均匀性与表面质量是有效的.随着工作气压的逐渐增加,工件内表面的Au膜厚度均匀性升高,当工作气压提升至1.5 Pa时,薄膜厚度均匀性达到±3％;当衬底温度提升至400℃时,沉积薄膜厚度均匀性达到±5％,并且薄膜表面平整、无裂纹.