真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 于治明 巴德纯 杨乃恒 王晓冬
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  1-14
    摘要: 分子泵自1912年诞生以来,至今已快近一个世纪了。它在初期进展较缓慢,在1970年以前,分子泵的应用还仅限于核物理、电真空、表面科学等领域。但近20年来由于半导体产业的兴起和薄膜工业的发展,...
  • 作者: 何蕾 周永安
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  15-17
    摘要: 本文主要介绍现代医药冻干机瓶装药物加塞系统控制的主要结构与工作原理。通过设计计算、实验研究得出最佳设计方案,为药用冻干机在进行可加塞瓶装药品中,提供了一个可借鉴的设计方案,并在实际制造工艺与...
  • 作者: 任跃军 戴映红 王晓虎 金文兵 陈仙春
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  18-20
    摘要: 本文主要介绍了可编程序控制器及智能温控仪在真空干燥与浸渍设备中的应用,并介绍了应用中出现的问题及解决办法。
  • 作者: 杨卓如 涂伟萍 程江
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  21-24
    摘要: 本文简要综述近年来粉体(食用粉和超细粉末材料等)真空冷冻干燥制备技术、工艺和设备等方面的发展近况。
  • 作者: 翟家佩 苏树强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  25-29
    摘要: 本文阐明了果蔬真空预冷装置的原理、组成、特性及优点;给出了基本设计参数的确定方法及计算公式,可供专业人员设计参考。
  • 作者: 吴起白 曾鹏 温伟祥 盛忠 盛钢 胡显奇 胡社军 谢光荣 黄拿灿
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  30-32
    摘要: 利用射频/直流磁控溅射法制备了316L不锈钢/SiO2复合薄膜,并对其组织、相结构和力学性能进行了测试分析。结果表明:直流磁控溅射316L不锈钢薄膜呈柱状晶结构,主要由Fe-Cr和-Fe相...
  • 作者: 刘云峰 李建军 陈国平 黄蕙芬
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  33-35
    摘要: 掺杂氧化钼对氧化钨薄膜的电致变色特性有一定的影响。本文介绍了用电子束蒸发制备不同MoO3掺杂比例的氧化钨膜。对其着色态与漂白态的光学特性以及循环伏安特性进行了实验研究。通过对循环伏安曲线的分...
  • 作者: 余圣发 刘婧 彭传才 彭晶 李京增 李伟 胡去慧 苏丹丹 蒋力
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  36-38
    摘要: 高透明低方阻ITO-Ag-ITO柔性薄膜具有广泛的用途。本文介绍了膜系设计、工艺参数及控制。对设备结构也做了简要叙述。测试结果表明,ITO-Ag-ITO多层膜采用连续卷绕镀的方法生产,性能优...
  • 作者: 朱国坤 薛兴 黄以平
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  39-41
    摘要: 本文介绍了一种用于高压电容器钽粉高温脱气处理的新型金属热处理炉。这种炉子是针对钽粉高温脱气的特点开发研制的,即使在工作温度、真空度较高,除气量、温度梯度较大的情况下,仍能保证高温脱气的合理性...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  41
    摘要:
  • 作者: 朱鸣 楼允洪 王瑞金
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  42-44
    摘要: 本文对磁流体密封的一般规律进行了概述,重点进行了密封间隙在不同转速、零件加工质量情况下,磁流体密封装置耐压能力的研究。得出了密封间隙过小,不但不能提高耐压能力,反而会有所下降的结论。
  • 作者: 刘汉林 刘立宁
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  45-46
    摘要: 本文叙述了真空系统中水蒸汽和油污染的来源和防止措施,并提出在开机和停机过程中尤其是突然停电时大气和油蒸汽通过抽气管道返回真空室问题的解决方法。
  • 作者: 李留臣 杨润
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  47-48
    摘要: 单晶炉是生长大规模集成电路所需要硅单晶的专用设备。本文主要介绍了单晶炉的真空系统与充气系统的设计。
  • 作者: 王继常
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  49-52
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  67
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  英文目次右
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

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期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
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