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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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4084
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19905
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  • 1. 多注耦合腔慢波结构冷测特性研究
    作者： 吕国强 李为 杨军 胡跃辉 蔡斐 邓光晟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  1-4
    摘要： 对多注耦合腔慢波结构的色散和耦合阻抗特性参数的计算分析方法进行了讨论,特别是边注耦合阻抗的模拟算法.利用准周期边界条件计算了Ku波段五注耦合腔慢波结构色散特性,直接通过定义式得到了-1次谐波...
  • 2. 悬浮单根纳米碳管端部场分布的计算
    作者： 尚学府 徐亚伯 李振华 王淼
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  5-9
    摘要： 本文以建立的悬浮纳米碳管头部模型替代整根纳米碳管,来研究影响阴阳极板间单根纳米碳管顶端的场强变化的不同参数.运用模拟电荷和镜像电荷导出单根纳米碳管尖端场增强因子关于长径比的简单线性公式,其结...
  • 3. 激光等离子体通道天线的色散特性研究
    作者： 夏新仁 尹成友
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  10-15
    摘要： 分析了激光等离子体通道周围为有耗气体媒质时激光等离子体通道天线(LPCA)所传播一般模式的色散特性.建立了LPCA的电磁模型,推导出广义柱坐标系下纵向分量所满足的波动方程和纵向场与横向场的关...
  • 4. 电容薄膜规热流逸效应修正方法研究
    作者： 孙海 张涤新 李得天 李正海
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  16-20
    摘要： 利用N2、He、Ar三种气体对三只电容薄膜规(CDG)在10-2Pa～102Pa的热流逸效应进行了研究,对实验数据进行拟合,得到每种气体在热流逸效应产生区间CDG示值压强的拟合公式,并用实验...
  • 5. 电弧离子镀NiCoCrAlY涂层的透射电镜研究
    作者： 关庆丰 孙超 潘励 王启民 闻立时 陈康敏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  21-25
    摘要： 采用透射电镜技术对电弧离子镀制备的NiCoCrAlY涂层的微观组织结构进行了研究,结果表明,电弧离子镀沉积后,在DSM11高温合金基体γ′相中析出大量的弥散纳米γ相颗粒,析出的γ相与γ′相取...
  • 6. 等离子体技术沉积SiCN薄膜中杂质O的来源、化合状态及其对薄膜结构和性能的影响
    作者： 丁万昱 张明明 徐军 赵艳艳 陆文琪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  26-30
    摘要： 利用微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了硅碳氮(SiCN)薄膜,并利用X射线光电子能谱、扫描电镜、椭偏光谱仪等对薄膜成分、结构、性能等进行表征.结果表明薄膜中O杂质含量及其结合态对薄...
  • 7. 反应溅射AlN薄膜的动态特性
    作者： 佟洪波 巴德纯 柳青
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  31-34
    摘要： 反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法,但采用该方法制备时,各个参数相互作用使过程复杂化.为了增强对该过程的理解,建立了反应溅射过程的动态模型.应用该模型分析了当氮流量增加或减少时...
  • 8. 二氧化硅在真空低价法制备铝过程中的歧化行为研究
    作者： 刘永成 周小奎 戴永年 朱冬梅 李秋霞
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  35-37
    摘要： 本文引入"物质吉布斯自由能函数法"讨论在低价氟化法制备铝过程中,二氧化硅在不同压力和温度下生成低价氧化硅及其分解的热力学条件并进行了实验验证.研究得出:在100kPa时,二氧化硅与还原剂碳反...
  • 9. 氟化非晶碳膜的微结构分析
    作者： 肖剑荣 蒋爱华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  38-41
    摘要： 利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,在不同的温度下制备了氟化非晶碳膜.采用原子力显微镜(AFM)、X 射线光电子能谱(XPS)和傅里叶红外吸收光谱(FTIR)等仪器对薄膜微结构进行...
  • 10. 室温下Cu/3C-SiC(111)界面形成的研究
    作者： 刘忠良 刘衍芳 刘金锋 徐彭寿 徐法强 李亮 潘海斌
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  42-45
    摘要： 用同步辐射光电子能谱(SRPES)和X射线光电子能谱(XPS)的方法研究了室温下Cu/3C-SiC (111) 界面的形成.在超高真空下,Cu慢慢沉积到2ML.Cu2p3/2用XPS测得,结...
  • 11. 工作参数对平面磁控溅射系统沉积速率的影响
    作者： Finley Jim Jiao Yu 励庆孚 苏静静 邱清泉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  46-51
    摘要： 为了分析磁场、阴极电压、气压和靶基板间距等工作参数对沉积速率的影响,本文对磁控放电过程和沉积过程进行了讨论,并着重对沉积速率计算的无碰撞模型和碰撞模型进行了研究.靶功率是影响沉积速率的关键因...
  • 12. GaN纳米棒的制备及机理研究
    作者： 何海平 叶志镇 姜静 杨志祥 王敬蕊 胡少华 马全宝
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  52-55
    摘要： 本文分别用三甲基镓和高纯蓝氨作为Ga源和N源,Ni(NO3)2作为催化剂,在Si(111)衬底上制得针尖状GaN纳米棒.测试结果表明制备的GaN纳米棒是沿<100>方向生长的纯六方相结构.通...
  • 13. 钇对CrAlTiN薄膜基体结合强度的影响研究
    作者： 刘兆政 刘耀辉 蒋百灵
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  56-60
    摘要： 本文研究了Al靶中加入不同含量的稀土钇(Y)对CrAlTiN薄膜结合强度的影响.并应用原子力显微镜(AFM)、能谱仪(EDS)、纳米压入仪、划痕试验仪、激光共焦显微镜(CLSM)对薄膜样品进...
  • 14. ICP-CVD制备氟化非晶碳(a-C:F)薄膜的研究
    作者： 冯志庆 刘东平 李东明 牛金海 谷建东
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  61-67
    摘要： 本文使用CH2F2为源气体,利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积(ICP-CVD)法在不同放电模式(连续或脉冲)、沉积气压、射频功率和位置下制备了a-C∶F薄膜.用原子力显微镜(AFM)观察...
  • 15. 硫化法在不锈钢基体上制备硫化钨薄膜的研究
    作者： 巴德纯 惠秀梅 杜广煜 王晓光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  68-72
    摘要： 本文研究了采用硫化法以3Cr13马氏体不锈钢为基片制备硫化钨薄膜.实验首先在3Cr13马氏体不锈钢上制备氧化钨薄膜,然后在石英加热炉内加入一定量的硫粉对氧化钨薄膜进行硫化处理.分别采用200...
  • 16. 硫化钨薄膜制备方法的研究
    作者： 巴德纯 杜广煜 王晓光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  73-77
    摘要： 层状物固体润滑薄膜是固体润滑薄膜中最常用的形式,这种薄膜都具有优良的减摩、耐磨、抗擦伤性能.本文介绍了目前主要的硫化钨薄膜的制备方法,并通过射频溅射方法和硫化法制备了硫化钨薄膜,对各种制备方...
  • 17. 高碱值硫化烷基酚钙盐摩擦膜的XANES研究
    作者： G.M.Bancroft M.Kasrai 万勇
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  78-81
    摘要： 本文利用碳的K-边、钙的L-边和硫的K-边和L-边X射线吸收精细结构光谱(XANES)系统研究了高碱值烷基酚盐润滑下摩擦膜的表面化学结构.摩擦学实验在高频摩擦磨损试验机上进行,结果表明,高碱...
  • 18. 真空系统中荧光屏余辉测试技术研究
    作者： 孟凡荣 常本康 石峰 邱亚峰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  82-84
    摘要： 像增强器荧光屏的参数测试是研制三代像增强器的前提.现建立真空测试系统.热电子面发射源在真空中发射电子,电场加速,然后轰击荧光屏,使其发亮.利用电场瞬间拒斥轰击电子,测试荧光屏的余辉;分析电场...
  • 19. RF-PECVD聚合类聚乙烯氧(PEO-like)薄膜及其对血小板吸附性研究
    作者： 付亚波 翁静 胡文娟 谢芬艳 陈强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  85-89
    摘要： 本文采用平板式电容耦合射频(RF,13.56MHz)等离子体源,以乙二醇二甲基醚(Ethylene Glycol DiMethyl Ether)为聚合单体,氩气为辅助气体,在连续与脉冲射频等...
  • 20. 多孔阳极氧化铝的微观结构与气压的关系
    作者： 俞华栋 宋晔 朱绪飞 杨修丽 汪信 肖迎红 贾红兵 陆路德
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  90-95
    摘要： 为验证氧气析出对PAA孔道产生和发展的作用,深入探讨PAA的形成机理,本文分别研究了在真空下和常压下,铝在磷酸溶液中的阳极氧化过程,用SEM表征了不同气压下PAA孔道的微观结构.在低气压下制...
  • 21. (Ti,Cr)N复合涂层组织结构与力学性能的研究
    作者： 曾德长 董小虹 邱万奇 陈灵 黄拿灿 黎炳雄
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  96-101
    摘要： 本文首先用离子氮化制备过渡层,然后进行电弧离子镀,通过改变靶的成分来控制涂层的成分,沉积结构成分不同的(Ti,Cr)N复合涂层:(TiCr)N+TiN和CrN+(TiCr)N.采用电子探针(...
  • 22. 非导电材料元素X-射线显微分析的补偿和校正方法
    作者： 卫斌 史佳新 吉元 张虹 张隐奇 戴琳 王丽
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  102-106
    摘要： 本文分析了在环境扫描电镜中,Al2O3等非导电陶瓷样品的荷电效应和环境压力对X-射线能谱仪(EDS)元素分析造成的影响.研究了相应的补偿和校正方法.在高真空模式下,荷电效应使氧含量明显增加....
  • 23. 制备光学薄膜的离子源技术概述
    作者： 尤大伟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  107-113
    摘要： 随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术.本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了...
  • 24. 《真空科学与技术学报》征稿说明/规范关键词选择的决定(试行)/学术论文英文摘要写作质量标准
    作者：
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年1期
    页码:  114
    摘要：

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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