反应溅射AlN薄膜的动态特性

• 作者: 佟洪波 巴德纯 柳青
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 动态模拟 AlN薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2962字
• 语种: 中文

摘要

反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法,但采用该方法制备时,各个参数相互作用使过程复杂化.为了增强对该过程的理解,建立了反应溅射过程的动态模型.应用该模型分析了当氮流量增加或减少时,过程中的各个参数随时间变化的瞬态行为.计算出的溅射参数与实测值相符.模型清楚地表明,过程的初始状态对其动态行为有显著的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械工程与自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	佟洪波	辽宁石油化工大学机械工程学院	10	75	6.0	8.0
3	柳青	辽宁石油化工大学机械工程学院	8	40	4.0	6.0