Ti1-xAlxN薄膜的制备及性能研究

• 作者: 徐瑛 李佐宜 杨晓非 林更琪 熊锐 胡作启 胡用时
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: (Ti,Al)N薄膜 射频反应溅射 光学性质 电阻率
• 年，卷（期）: 1998,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.1998.01.004

摘要

介绍了利用反应溅射法制备Ti1-xAlxN薄膜的工艺过程,测量并分析了Ti1-xAlxN薄膜的光学性能及电阻率与薄膜成分的关系.结果表明,Ti1-xAlxN薄膜的折射率和消光系数均随薄膜中Al含量x的增加而减小,电阻率则随x的增加而增大.并从薄膜的基本结构变化过程对实验结果作出解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李佐宜	华中理工大学固体电子学系	16	50	4.0	6.0
2	杨晓非	华中理工大学固体电子学系	6	25	3.0	5.0
3	熊锐	华中理工大学固体电子学系	2	5	1.0	2.0
4	胡作启	华中理工大学固体电子学系	5	11	2.0	3.0
5	徐瑛	华中理工大学固体电子学系	1	4	1.0	1.0
6	林更琪	华中理工大学固体电子学系	3	7	2.0	2.0
7	胡用时	华中理工大学固体电子学系	4	5	1.0	2.0