IC离子注入工艺的薄层电阻等值图监控

• 作者: 周全德
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 薄层电阻 等值图 离子注入 集成电路工艺
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 410-414
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 2346字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-3365.2000.06.012

摘要

主要介绍了测试薄层电阻等值图所反映出IC离子注入工艺存在的种种问题,以及改进结果和进行有效的监控,这对IC生产是非常重要的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周全德		2	10	1.0	2.0