分步投影光刻机对准系统应用与研究

• 作者: 吴成功
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 离轴对准 基准标记 同轴对准 增强式选场对准
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 光学光刻技术
• 页码范围: 58-62
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2683字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.09.015

摘要

分步投影光刻设备对准系统是由嵌在工作台上的一组基准标记、一套离轴对准系统和一套掩模对准系统组成.当工作台上的基准标记运行到投影镜头下面时,通过掩模对准系统在预定范围内扫描测量标记位置值.当工作台上的基准标记或硅片上的标记运行到离轴对准系统测量光束下面时,用系统扫描可以测量出标记的坐标值.即可通过测量值计算出每个曝光场的中心坐标值.通过EGA对准数据,可计算出硅片的平移偏移量、旋转量、比例量和正交性量的补偿值.