TaN薄膜原子层淀积

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: Ta N薄膜 铜阻挡层 原子层淀积 汽压 热稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 成膜技术
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 214字
• 语种: 中文

摘要

我们成功合成了TaN薄膜原子层淀积的高纯有机钽先驱物并使其特性化,同时对这些先驱物的汽压和热稳定性进行了研究.根据汽压分析发现,TBTEMT比所有其它已发表的液体TaN先驱物(包括TBTDET、TAITMATA和IPTDET)具有更高的汽压.用1H NMR技术研究了这些烷基先驱物的热稳定性.结果表明,与乙二烯基先驱物相比,对于TBTDET和TBTEMT材料,特丁基群是最稳定的基群.TaN先驱物热稳定性按以下次序下降:TBTDET＞PDMAT＞TBTEMT.最后,通过对金属中央周围的配合基体进行轻微的调整使先驱物汽压和热稳定性处于良好的状态.