退火温度对纳米TiO2薄膜微结构的影响

• 作者: 侯洵 张德恺 李婷 白晋涛 胡晓云
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 无机非金属材料 TiO2纳米薄膜 表面形貌 微结构 退火温度 溶胶-凝胶法
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 4169字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2005.07.004

摘要

利用XRD、IR、UV-VIS、AFM、XPS等手段,研究了退火温度对溶胶-凝胶法制备的纳米TiO2薄膜微结构和表面形貌的影响.450～600℃退火处理的薄膜呈锐钛矿和金红石型混晶结构,700℃退火后为纯金红石相;水峰的吸收峰消失在300～500℃之间,至500℃有机基团完全消失,薄膜表面主要有C,Ti,O三种元素;改变退火温度,可以使薄膜的禁带宽度在3.26～3.58 eV之间变化,可以在一定范围内,获得不同折射率的TiO2纳米薄膜;薄膜的表面粗糙度(RMS)为2～3 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白晋涛	西北大学光子学与光子技术研究所	93	797	16.0	23.0
2	侯洵	西北大学光子学与光子技术研究所	92	1070	17.0	28.0
4	胡晓云	西北大学光子学与光子技术研究所	61	437	12.0	16.0
8	张德恺	西北大学物理系	14	129	8.0	11.0
11	李婷	西北大学物理系	22	293	8.0	17.0