等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展

• 作者: 刘明 叶甜春 王巍 陈大鹏
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体刻蚀 先进过程控制 实时控制 流程与流程控制
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7|TN405.98
• 字数: 3198字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2005.12.001

摘要

先进过程控制(APC)是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制.APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率.针对等离子体刻蚀过程,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模型.最后,讨论了APC技术的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子研究所	207	1983	20.0	38.0
2	王巍	重庆邮电学院光电工程系	72	264	9.0	10.0
4	叶甜春	中国科学院微电子研究所	200	911	14.0	18.0
5	陈大鹏	中国科学院微电子研究所	79	466	10.0	17.0