193 nm浸液式光刻技术现状

• 作者: 孔德生 童志义
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 浸液式光刻 曝光设备 折射率 偏振技术 双重曝光
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TN3
• 字数: 6187字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.07.001

摘要

概述了193 nm浸液式光刻技术发展现状及技术路线,结合国际半导体技术发展指南(ITRS)和各公司在SPIE微光刻研讨会上宣布的最新研究成果,探讨了193 nm浸液式光刻技术的发展趋势.