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摘要:
介绍了一种较为先进的光罩可制造性规则检查的方法及其系统构成.实验结果表明,通过整合各种EDA工具,在光罩检验前就可发现这些可能给光罩检验造成困难的图形,为后续光罩检验步骤提供参考,显著提高了光罩检验的效率.
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文献信息
篇名 一种新颖的光罩可制造性规则检查方法与系统
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 光罩可制造性规则检查 光罩缺陷检测 版图
年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目 工艺技术与材料
研究方向 页码范围 238-240
页数 3页 分类号 TN3
字数 2233字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2007.03.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程秀兰 上海交通大学微电子学院 48 205 5.0 12.0
2 李峥 上海交通大学微电子学院 7 23 3.0 4.0
6 黄荣瑞 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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2007(0)
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研究主题发展历程
节点文献
光罩可制造性规则检查
光罩缺陷检测
版图
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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