基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜.用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.600.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa.一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能. 能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0 6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa.一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性
推荐文章
磁控溅射法制备W1-xAlxN薄膜的微结构与性能
磁控溅射
WAlN复合膜
微结构
抗氧化
摩擦性能
磁控溅射沉积U薄膜性能研究
U薄膜
组织
结构
密度
磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为
掺碳
TiB2薄膜
中间层
摩擦因数
磁控溅射
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 磁控溅射W1-xTixN薄膜的结构与摩擦学性能研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 W-Ti-N薄膜 反应磁控溅射 基体位置 摩擦磨损性能
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 249-253
页数 分类号 O484
字数 2447字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.07
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李长生 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室 127 626 12.0 18.0
2 李学超 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室 5 22 3.0 4.0
3 丁建 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室 8 15 2.0 3.0
4 朱秉莹 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室 10 42 4.0 6.0
5 莫超超 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室 3 18 3.0 3.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (35)
共引文献  (14)
参考文献  (13)
节点文献
引证文献  (6)
同被引文献  (12)
二级引证文献  (22)
1987(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1990(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1991(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1992(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1995(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
1997(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
1998(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1999(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2000(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2001(4)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(4)
2002(7)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(6)
2003(4)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(3)
2004(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2005(5)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(3)
2006(3)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(1)
2007(4)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(2)
2008(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
2009(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2010(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2011(3)
  • 引证文献(3)
  • 二级引证文献(0)
2012(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
2013(5)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(5)
2014(7)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(7)
2015(5)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(3)
2016(3)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(3)
2017(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2019(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
W-Ti-N薄膜
反应磁控溅射
基体位置
摩擦磨损性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
论文1v1指导