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摘要:
分析了硅片预对准设备的工作原理、流程及计算方法,并在实验数据的基础上详细讨论了各种方法的优缺点。
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 光刻设备中硅片预对准的算法模型分析
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 硅片传输 预对准 硅片 缺口
年,卷(期) 2011,(9) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 7-10,30
页数 分类号 TN305.7
字数 1799字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.09.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张鹏远 1 1 1.0 1.0
2 杨林 1 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅片传输
预对准
硅片
缺口
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
总被引数(次)
10002
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