SiO2/VOx多层复合薄膜的结构与性能研究

• 作者: 罗烽月 黄维刚
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 二氧化硅薄膜 多层复合薄膜 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 28-31
• 分类号: TB43
• 字数: 2426字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2011.03.009

摘要

采用射频磁控溅射法,在普通玻璃基片上成功制备了SiO<,2>/VO<,x>多层复合薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、傅立叶变换红外光谱仪(FTIR),紫外可见光分光光度计(UV-Vis)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了薄膜的物相、热致相变特性及V的价态.结果表明,薄膜中VO<,2>晶体具有(110)择优取向生长;SiO<,2>底膜有助于多层复合薄膜中VO<,2>相结晶度的提高,可使V<,4+>摩尔分数由53.9%提高至66.0%;同时.SiO<,2>增透膜的增透效果明显,增透膜沉积时间为60 min时,可使SiO<,2>/VO<,x>/SiO<,2>多层复合薄膜可见光透过率提高至51%:制得的SiO<,2>/VO<,x>/SiO<,2>多层复合薄膜具有较好的热致相变特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄维刚	四川大学材料科学与工程学院	56	381	12.0	17.0
2	罗烽月	四川大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0