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摘要:
采用物理气相输运(PVT)法生长了直径为50 mm的K掺杂CdS晶体,对掺杂和未掺杂的CdS晶片进行显微观察、二次离子质谱(SIMS)成分分析、红外光谱透过率以及霍尔效应测试,研究了K元素掺杂对CdS晶体光学及电学性能的影响.生长时用KCl进行掺杂.显微观察显示,掺杂KCl后CdS晶体的微观形貌没有明显变化;SIMS成分测试表明,晶体中引入的杂质主要是K元素,而Cl元素未掺入晶体中.红外光谱透过率发现掺杂K元素的CdS晶体相比于未掺杂晶体,不仅在波长为2.5~ 10 μm内红外透过率显著下降,而且在波长为10μm以上时红外透过率甚至低于15%.另外,K元素掺杂CdS晶体电学性能也发生变化,晶体迁移率也由未掺杂的318 cm2/ (V·s)下降为146 cm2/ (V·s).
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文献信息
篇名 K元素对CdS晶体光学及电学性能的影响
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 硫化镉 单晶 氯化钾掺杂 光学特征 电学特征
年,卷(期) 2015,(11) 所属期刊栏目 半导体材料
研究方向 页码范围 846-849
页数 分类号 TN304.25
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2015.11.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程红娟 中国电子科技集团公司第四十六研究所 44 47 4.0 5.0
2 张颖武 中国电子科技集团公司第四十六研究所 14 16 2.0 3.0
3 齐海涛 中国电子科技集团公司第四十六研究所 20 30 3.0 4.0
4 徐永宽 中国电子科技集团公司第四十六研究所 28 57 4.0 6.0
5 练小正 中国电子科技集团公司第四十六研究所 10 9 1.0 2.0
6 司华青 中国电子科技集团公司第四十六研究所 2 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
硫化镉
单晶
氯化钾掺杂
光学特征
电学特征
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半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
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1976
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