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摘要:
随着光通信技术的发展,如何制备能与Si基电路单片集成的响应波长在1.3和1.55 μm的高性能光电探测器成为研究热点.总结了SiGe组分变化的缓冲层技术、低温缓冲层技术以及选区外延这三种主流的Ge材料外延技术,介绍了pin结构、金属-半导体-金属(MSM)结构、雪崩光电二极管(APD)结构以及pin结构和MSM结构与光波导集成这四种不同结构的Ge光电探测器,并从这些不同结构的器件制备技术方面阐述了近红外波段Ge光电探测器的研究进展及其应用.
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文献信息
篇名 近红外波段Ge光电探测器的研究进展
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 光通信 单片集成 Ge 光电探测器 近红外
年,卷(期) 2015,(4) 所属期刊栏目 趋势与展望
研究方向 页码范围 241-249
页数 分类号 TN215
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2015.04.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵超 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 35 208 9.0 13.0
2 罗军 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 51 222 8.0 12.0
3 柯星星 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 1 4 1.0 1.0
4 王桂磊 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 2 7 2.0 2.0
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