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《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
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真空镀膜技术的现状及发展
真空镀膜技术
物理气相沉积法
真空蒸发
溅射镀膜
离子镀膜
基于真空镀膜技术的薄膜热传感器实验
膜
测量
瞬态响应
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期刊影响力
真空
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
开本：
大16开
出版地：
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号：
8-30
创刊时间：
1964
语种：
chi
出版文献量（篇）
2692
总下载数（次）
3
总被引数（次）
12898
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