Ca1-1.5xWO4∶Eux发光薄膜的射频溅射制备技术研究

• 作者: 曹俊 陈贻斌 陈连平
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钨酸钙 铕 溅射 薄膜 发光
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 434-438
• 分类号: TB7|O43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.04.09

摘要

以Ca0.64WO4∶Eu0.24陶瓷为靶材,采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca1-1.5xWO4∶Eux薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca1-1.5xWO4∶Eux薄膜的红光(616nm)发光强度的影响;并利用荧光光谱仪和X射线光电子能谱(XPS)仪研究了薄膜的发光性能和成分.极差分析说明,溅射气压、时间和功率都会影响薄膜的发光强度,溅射时间的影响尤为重要.为提高发光强度,溅射气压宜控制在0.2Pa左右,溅射时间在140 min.成分分析表明,薄膜中钙元素含量显著低于靶材中的含量,但铕元素含量显著偏高.研究还表明,靶材中Ca、W、O和Eu元素的溅射产额比为1∶1.79∶1.84∶2.28.XPS分析和光致发光谱都说明,薄膜中的Eu元素同时存在+3和+2价.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈连平	江西理工大学材料科学与工程学院	11	18	3.0	3.0
2	陈贻斌	江西理工大学材料科学与工程学院	4	7	2.0	2.0
3	曹俊	江西理工大学材料科学与工程学院	5	11	2.0	3.0