干法刻蚀方面过孔截面的异常凸出机理研究与改善

• 作者: 刘杰 崔立加 徐浩 徐纯洁 查甫德 赵双 金鑫 项龙飞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电感耦合等离子体刻蚀设备 有机膜型玻璃基板 过孔 异常凸出
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 页码范围: 838-842
• 页数: 5页
• 分类号: TN141.9
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2020.09.07

摘要

本文采用了鱼骨图,DOE田口设计的分析方法,使用电感耦合等离子体刻蚀设备对准备刻蚀PVX层过孔的有机膜型玻璃基板进行刻蚀,根据实验的结果,确定了发生的工序,通过对有机膜型玻璃基板过孔截面部位的异常凸出机理影响因素进行分析,改善工艺刻蚀条件中压力,等离子体轰击功率,刻蚀气体的比例流量参数,解决了有机膜型玻璃基板在过孔刻蚀截面的异常凸出问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔立加		1	0	0.0	0.0
2	徐纯洁		1	0	0.0	0.0
3	查甫德		1	0	0.0	0.0
4	项龙飞		1	0	0.0	0.0
5	金鑫		1	0	0.0	0.0
6	刘杰		1	0	0.0	0.0
7	徐浩		1	0	0.0	0.0
8	赵双		1	0	0.0	0.0