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摘要:
基于直流磁控溅射的基本原理,通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析,建立了磁控溅射系统的几何模型,推导出了膜厚分布的数学理论模型.借助MATLAB数学软件,计算了不同靶基距下膜厚分布的理论数据,分析了靶基距变化时膜厚分布的特点.实测了两种不同靶基距下膜厚的分布,通过与理论数据的对比,验证了模型的可靠性.理论模型与实测数据的分析表明:随着靶基距的逐渐增大,膜厚的变化率减缓,膜层的平均厚度降低,膜厚分布的均匀性提高;在靶基距一定的情况下,增宽靶材的刻蚀区域会提高膜层厚度及其均匀性;基板上的膜厚分布大致呈现从中心到边缘逐渐变薄的趋势,膜层最厚的位置随着靶基距的增大,从靶材刻蚀最深处在基板上的投影位置,逐渐向基板中心转移.
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文献信息
篇名 直流磁控溅射膜厚分布实测与数值模拟研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 磁控溅射 理论模型 膜厚分布 靶基距 薄膜
年,卷(期) 2022,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 37-45
页数 9页 分类号 O484.5|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjvst.202103005
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
理论模型
膜厚分布
靶基距
薄膜
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期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
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